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第三代半导体器件电应力诱发参数不稳定性研究
第三代半导体器件电应力诱发参数不稳定性研究
本文聚焦第三代半导体器件产业化与测试方法协同发展,介绍了相关团队与华峰测控紧密合作,将创新理念成功转化为落地产品,并完成了全新测试设备的开发,有力推动了SiC器件从无到有、从有到优的跨越式发展。文章指出 ...
分类:    2026-4-9 10:16
芯课堂 | 为什么你的 SiC MOSFET 发热严重?可能是反向恢复没做好
芯课堂 | 为什么你的 SiC MOSFET 发热严重?可能是反向恢复没做好
SiC MOSFET作为第三代宽禁带功率器件凭借高效、高频、高可靠的优势广泛应用于新能源汽车电驱动、工业逆变器、车载充电机等高压高频场景其集成的体二极管(寄生PN结)反向恢复特性是影响器件开关损耗系统电磁兼容性( ...
分类:    2026-4-9 09:47
低粗糙度刻蚀工艺新突破,深圳平湖实验室揭示氧化镓SBD性能调控机制
低粗糙度刻蚀工艺新突破,深圳平湖实验室揭示氧化镓SBD性能调控机制
深圳平湖实验室第四代材料器件研究团队和南方科技大学化梦媛副教授研究团队合作在《Journal of Vacuum Science Technology A》国际期刊上发表题为“Vertical β-Ga2O3 Schottky Barrier Diodes with Low Surface Ro ...
分类:    2026-4-9 09:42
宽禁带科技论| 突破氮化镓性能边界:超结结构赋能1万伏增强型氮化镓器件
宽禁带科技论| 突破氮化镓性能边界:超结结构赋能1万伏增强型氮化镓器件
当前,氮化镓功率器件技术已日益成熟,并在消费电子市场取得了可观的销售成绩。这类器件电压阻断能力强普遍应用于数百伏电压场景,其中尤以650V增强型高电子迁移率晶体管(HEMT)的应用最为广泛。然而,在更高电压的 ...
分类:    2026-4-9 09:40
被严重低估的MOCVD:它才是第三代半导体GaN爆发的真正引擎
被严重低估的MOCVD:它才是第三代半导体GaN爆发的真正引擎
前言:聚光灯打错了地方每当有人问"第三代半导体的核心设备是什么",十个人里有九个会脱口而出:光刻机。这个答案没有错,但不完整—对于GaN这条赛道而言,它打错了地方。在这里,主角不再是光刻机,而是主导材 ...
分类:    2026-4-8 09:27
提前两年,罗姆宣布达成 8 英寸 SiC MOSFET 技术目标
提前两年,罗姆宣布达成 8 英寸 SiC MOSFET 技术目标
2026年4月2日,罗姆宣布其“8英寸下一代碳化硅(SiC)MOSFET的开发”项目已达到技术目标。该项目是新能源产业技术综合开发机构(NEDO)绿色创新基金资助的项目,已于2025财年完成研发。最初计划在2027年底前达到技术 ...
分类:    2026-4-8 09:25
三菱:绝缘衬底+无预处理双突破!金刚石CVD生长技术再升级
三菱:绝缘衬底+无预处理双突破!金刚石CVD生长技术再升级
金刚石凭借超高热导率、约5.5 eV的宽禁带特性及优异的化学稳定性,在高功率电子器件、热管理、辐射探测、量子信息等前沿领域具备不可替代的应用潜力。在金刚石薄膜制备技术中,化学气相沉积(CVD)已成为实现大面积 ...
分类:    2026-4-8 09:24
宽禁带科技论|中科院苏州纳米所徐科团队:缺陷工程使原本不能RE的h-BN成功外延GaN
宽禁带科技论|中科院苏州纳米所徐科团队:缺陷工程使原本不能RE的h-BN成功外延GaN
第一作者:Jianxi Xu通讯作者:Yuning Wang, Yu Xu,Bing Cao,Ke Xu通讯单位:中国科学技术大学、苏州大学、中科院苏州纳米所研究背景远程外延(RE)通过二维材料(2DM)中间层复制衬底晶体学信息,是异质集成的重 ...
分类:    2026-4-7 09:30
南邮唐为华教授、郭宇锋教授&北邮李培刚教授&内蒙古大学团队:正向偏压应力下p-Ni ...
南邮唐为华教授、郭宇锋教授&北邮李培刚教授&内蒙古大学团队:正向偏压应力下p-Ni ...
由南京邮电大学唐为华教授、郭宇锋教授、季学强副教授、北京邮电大学李培刚教授、内蒙古大学刘增研究员等人的研究团队在学术期刊IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES发布了一篇名为Insight Into the Performance ...
分类:    2026-4-7 09:17
GaN技术在人形机器人中的角色及应用
GaN技术在人形机器人中的角色及应用
据IDC、高盛报告,2025年全球人形机器人出货约1.8万台(同比 + 508%),2026年达5.1万台(年同比增长约183.33%)。IDC预测,2029年全球人形机器人市场规模达206亿美元,中国达750亿元,2025 - 2029年复合增长率超93% ...
分类:    2026-4-7 09:12
全球首款兆瓦级氧化镓功率模块问世,脉冲功率电子迈入新纪元
全球首款兆瓦级氧化镓功率模块问世,脉冲功率电子迈入新纪元
01 前言近日,一项来自香港大学、南京大学与弗吉尼亚理工等机构的国际合作研究成果在《Nature Communications》上发表(https://doi.org/10.1038/s41467-026-71274-6)。研究团队成功研制出全球首款兆瓦级超宽禁带半导 ...
分类:    2026-4-3 09:51
报告解读| 面向未来数据中心的99+%高效率超紧凑固态变压器
报告解读| 面向未来数据中心的99+%高效率超紧凑固态变压器
苏黎世联邦理工学院Johann W. Kolar教授团队于2025年10月发布专题报告,系统阐述了面向下一代数据中心的高效超紧凑固态变压器技术,涵盖从全模块化架构的“模块化惩罚”分析到准单级/单级拓扑创新,并提出mVR型和矩 ...
分类:    2026-4-3 09:21
IMEC最新1200V双栅极GaN开关技术深度解析-重点关注衬底电位管理
IMEC最新1200V双栅极GaN开关技术深度解析-重点关注衬底电位管理
一、800V系统的“紧箍咒”:为什么1200VGaN是势在必行的突破?1200V,是GaN的"禁区"还是"蓝海"?长期以来,GaN器件被"锁死"在650V电压等级。面对汹涌而来的电动汽车800V高压系统,这个天花板必须被打破 ...
分类:    2026-4-2 09:23
突破9000V!九峰山实验室刷新氧化镓MOSFET耐压纪录
突破9000V!九峰山实验室刷新氧化镓MOSFET耐压纪录
近日,九峰山实验室在超宽禁带半导体领域取得重大进展,成功研制出基于国产同质外延片的击穿电压超过9000V的氧化镓横向MOSFET。这一成果标志着实验室在超高压氧化镓功率器件技术领域达到国际先进水平。9000V刷新氧化 ...
分类:    2026-4-2 09:15
年产1.2万片!晶曜盛巳涉足第四代半导体氮化铝材料产业
年产1.2万片!晶曜盛巳涉足第四代半导体氮化铝材料产业
3月26日上午,由前湾人才基金领投、复旦杭州湾科创园重点孵化的沪上人才项目——晶曜盛巳(宁波)半导体有限公司在宁波前湾新区数字经济产业园二期正式运营。作为国内最早布局氮化铝(AIN)单晶材料研发与产业化的企 ...
分类:    2026-4-1 09:18

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