摘要: 在半导体产业追求自主可控与高质量发展的浪潮中,广州粤升半导体设备有限公司传来振奋人心的消息——公司自主研发的 8 英寸碳化硅(SiC)外延设备成功完成研发并顺利交付标杆客户。这一成果不仅是企业自身技术实力发 ...

在半导体产业追求自主可控与高质量发展的浪潮中,广州粤升半导体设备有限公司传来振奋人心的消息——公司自主研发的 8 英寸碳化硅(SiC)外延设备成功完成研发并顺利交付标杆客户。这一成果不仅是企业自身技术实力发展的重要里程碑,更标志着中国 SiC 产业在关键设备领域实现了自主可控,为行业高质量发展注入了强劲动力。

设备外观及装车照片

设备性能 : 多项关键指标达国际先进水平


广州粤升自研的SiC外延设备所生长的8英寸SiC外延片在多项关键指标上表现亮眼,典型数据如下:

  • 膜厚与掺杂浓度不均匀性:外延片膜层厚度不均匀性小于0.5%,掺杂浓度不均匀性小于1.2%。
  • 表面粗糙度:多点AFM测试结果显示外延片表面粗糙度均小于0.160 nm。
  • 表面缺陷:外延片表面缺陷数量少,3mm×3mm管芯良率达到99%以上。

膜厚与掺杂浓度不均匀性

表面粗糙度

表面缺陷情况

产业升级:赋能SiC产业高质量发展

当前,半导体设备的国产化和自主可控已成为国家战略的迫切需求。“一代材料,一代器件,一代装备”,设备作为产业链的核心环节,其技术突破对整个产业的升级具有决定性意义。广州粤升8英寸SiC外延设备的成功研发,精准解决了SiC产业链中关键环节的技术痛点,助力我国宽禁带半导体产业的高质量发展。


来源:粤升设备

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