近期,欧盟、韩国均宣布拨款加码SiC产业化,资助金额合计超11亿人民币,法雷奥、贺利氏、SK siltron及DB Hitech等多家企业均已加入到这些资助项目中,详情请往下看。

欧盟资助FastLane项目

法雷奥、贺利氏已加入

6月24日,据多家外媒报道,欧盟出资2300万欧元(约1.79亿人民币)资助了一个名为FastLane的半导体项目,该项目旨在改变欧洲碳化硅电子电力产品的价值链,助力欧洲实现SiC技术可持续发展。

报道披露,该项目总投资预算为9600万欧元(约7.5亿人民币),其中包括欧盟2300万欧元的资助资金,项目建设为期36个月,从2024年5月1日至2027年4月30日。

项目由法雷奥法国公司牵头,还汇集了贺利氏等29家半导体企业,其中贺利氏将专注于开发用于无贵金属金属化活性金属钎焊(AMB)基板和铝散热器的新型银烧结材料。

FastLane项目计划在欧洲建立从SiC粉料到衬底制造的技术支撑,以促进新型智能半导体器件、智能功率模块和功率转换器的开发,最终拓宽基于碳化硅技术的应用领域。

韩国2大投资计划

推进8吋SiC等进程

韩国近期也在加大投资,吸引多家SiC相关企业形成强大的联盟,共同推动SiC技术在电力电子领域的应用。

● 釜山建立8英寸SiC功率半导体示范基地

6月25日,韩国贸易、工业和能源部宣布,将启动“第二材料、零部件和设备专业复杂试验台建设项目”投资计划——将在未来五年内实施,总投资 1000 亿韩元(约5.22亿人民币)资助五个园区,其中包括釜山8英寸SiC功率半导体批量工艺试验台建设项目。

具体来看,该项目将在三至五年内获得总额为 415 亿韩元(约2.17亿人民币)的政府资助,其中200 亿韩元将投资于试验台建设(设备),200 亿韩元将投资于研究与开发,以建立8英寸SiC等化合物功率半导体供应链,15亿韩元将投资于人力资源培训。

● 韩国KITIE推进 "化合物功率半导体先进技术开发项目"

6月26日,据韩媒报道,韩国产业技术规划和评估研究院(KITIE)将投资1385 亿韩元(约7.23亿人民币),从今年直至2028年期间,支持推进"化合物功率半导体先进技术开发项目",包括SiC及GaN的产品技术开发。

6月20日,KITIE已与SK Siltron(材料)、Above Semiconductor(设计)、DB Hi-Tech(制造)以及韩国半导体研究协会签署了业务合作谅解备忘录,共同积极打造化合物功率半导体生态链。

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来源: 行家说三代半

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