谱育科技邀您参加2024宽禁带半导体先进技术创新与应用高峰论坛 - 新闻通知中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟

尊敬的各位同仁、合作伙伴与业界朋友：

凝芯聚力，降本增效——2024宽禁带半导体技术创新与应用发展高峰论坛将于2024年6月5日—7日在北京格兰云天国际酒店隆重举行。此次会议旨在聚焦宽禁带半导体领域关键材料、智能装备、核心器件等产业链，与业界精英们共同解锁我国宽禁带半导体产业链降本增效，高质量发展的实现路径，提高宽禁带半导体创新链整体效能，为行业搭建多维度沟通合作平台！

在会议期间，杭州谱育科技发展有限公司将在32号展台上展出最新产品和技术，我们诚挚地邀请您莅临展台，与我们进行深入的交流和探讨，共同探索合作与发展的可能性。

我们期待着您的光临，相信您的参与将为本次会议增添更多精彩与活力。让我们携手共进，共创辉煌！

扫码报名

01.

关于杭州谱育科技发展有限公司

杭州谱育科技发展有限公司（简称“谱育科技”）创立于2015年，总部位于浙江杭州，是一家专注于重大科学仪器研发和产业化创新应用的国家高新技术企业，推动以技术创新实现分析检测及监测的现场化、自动化、智能化，致力于成为全球领先的科学仪器制造商，实现科学仪器“中国梦”。

谱育科技在先进工业、生态环境、医疗诊断、生命科学、食品药品、应急安全等领域为全球用户提供有竞争力、安全可信赖的科学仪器、解决方案与服务，坚持围绕用户需求持续技术创新，厚积薄发，为用户不断创造价值，推动世界进步。

谱育科技是国内ICP-MS技术的领航者，从2011年至今，先后研制发布了多款性能优异的ICP-MS，包括世界首台可移动式ICP-MS，国内首台电感耦合等离子体串联质谱仪（ICP-MS/MS）。

1500+ 研发人员。
60%+研发硕博学历。
15亿+ 累计研发费用。
20%+研发投入占营收比。

02.

展品精彩预告

半导体行业检测综合解决方案

半导体制程金属离子检测——EXPEC 7350S 三重四极杆电感耦合等离子体质串联谱仪

EXPEC 7350S 三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪

EXPEC 7350S ICP-MS/MS颠覆传统，采用全新的先进工艺设计和突破性的技术，将国产ICP-MS技术平台推向巅峰，独特的MS/MS模式，大大提高了干扰消除能力，轻松化解半导体行业分析中的疑难杂症，是痕量元素分析的终极解决方案。其卓越的分析能力，成功突破了传统ICP-MS无法克服的干扰问题，从超纯湿电子化学品、电子特气、高纯金属溅射靶材纯度分析到碳化硅片、硅片表面金属离子分析，均可获得长期稳定、可靠的分析结果。

谱育科技百级超净室

芯片制造成本高昂，只有将良品率控制在90%上下，才能保证有效的生产，如果制程过程中掺入了任何小的颗粒，导致元件失效，都会带来巨大的损失，因此芯片制造及质控过程均需要在超净间中进行，避免环境和人体释放的微小颗粒污染，以及携带的K, Na, Ca, Mg, Fe, Al、Zn等杂质元素的污染，尤其是在ppt及亚ppt级的检测需求下，对设备的操作环境和操作人员的污染控制有着严格的要求。对此，谱育科技组建了半导体行业的应用研究团队，配备了专业的千级和百级超净间，开发了成熟、可靠整体解决方案，为国产半导体发展突破封锁保驾护航。在超净间和超净服的隔离下，EXPEC 7350S可实现ppq级别的痕量元素检测能力，达到Grade 6级别及以上超高纯试剂中杂质成分的检测能力。

应用案例

ICP-MS法测定SiC样品表面金属杂质含量

建立了检测SiC样品表面金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱法。

选取6寸碳化硅片样品，经过前处理后，使用EXPEC 7350S检测后进行定量分析。此方法检出限为1.33E+07~3.24E+08 atoms/cm2，远远低于5E+10 atoms/cm2的产品限量，各线性范围在1-300ng/L浓度范围内相关系数大于0.999。该方法检出限低，灵敏度高，能够对SiC样品表面金属杂质含量准确定量，符合行业测试需求。

6寸SiC片表面金属杂质限量与方法检出限

洁净室AMC微污染气体监测系统

随着半导体制程技术的全面发展，芯片线宽已全面进入到纳米级别，洁净室分子级污染物或气态分子污染物（AMC）控制要求越来越严格。谱育科技综合利用自主研发的光谱、色谱、质谱和电化学技术，为洁净室AMC微污染气体检测提供完整技术手段，通过自动测量来可视化污染状态，及时对AMC中的酸性、碱性、可凝性和掺杂性物质进行检测，降低管理成本。