半导体缺陷检测设备 Mars 4410 成功出货!中电科风华为我国第三代半导体产 ...

近日，中电科风华信息装备股份有限公司推出首款具备完全自主知识产权的第三代半导体晶圆缺陷检测设备—Mars 4410。目前，该设备已陆续发往国内多家客户进行使用。

Mars 4410 是碳化硅器件产线中的关键装备，用于对碳化硅衬底片、外延片、腐蚀片的缺陷检测。设计团队经过两年不懈努力，攻克了激光散射、显微成像等光学检测核心关键技术。

设备采用差分干涉相衬、光致发光、暗场等多种检测手段，晶圆检测可与数据分析并行处理，晶圆缺陷可与器件失效相关联，具有低噪声和高分辨率成像、高检测通量、高检出率和准确性等优势，能满足提升 SiC 器件良率的需求。

在国家及省、市产业政策支持引导下，中电科风华加快技术攻关，推出碳化硅缺陷检测设备，填补国内空白，打破国际垄断，实现进口替代，积极响应我国第三代半导体产业发展的迫切需求，解决了“卡脖子"技术难题。中电科风华公司将会继续致力于产业链自主化、国产化建设，为我国第三代半导体产业自主可控和高质量发展保驾护航!

来源：中电科风华