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CN200910238110-一种制备高纯半绝缘碳化硅晶体的方法

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发表于 2016-7-13 17:35:49 | 显示全部楼层 |阅读模式
一种制备高纯半绝缘碳化硅晶体
的方法
申请号:200910238110.0
申请日:2009-11-18
申请(专利权)人中国科学院物理研究所北京天科合达蓝光半导体有限公司
地址100190 北京市海淀区中关村南三街8号
发明(设计)人陈小龙刘春俊 王波 彭同华 鲍慧强 王文军 王皖燕 王刚
李龙远
主分类号C30B23/00(2006.01)I
分类号C30B23/00(2006.01)I C30B29/36(2006.01)I
公开(公告)号101724893A
公开(公告)日2010-06-09
专利代理机构北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003
代理人尹振启

012.png

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